电子级氨水（NH3·H2O）是半导体行业中很重要的一种碱性湿电子化学品，主要用于半导体行业中清洗、光刻胶去胶、金属沉积前表面预处理等场景，是SC-1标准清洗液的核心组分。具体包括清洗工艺中去除晶圆表面的金属离子、有机物等污染物，中和酸性清洗液，提升金属沉积薄膜的附着力和均匀性等。此外，电子级氨水也可以用于元素分析实验室的清洗试剂。试剂的金属元素含量受到严格控制，常常要求达到Semi的G5级（10ppt以下）。
电子级氨水的常用浓度为29%，由于高浓度的氨水具有高蒸气压和碱性，进入ICP-MS等离子体后容易剧烈吸热并产生大量水蒸气和氨气，导致等离子体温度下降、形态畸变，甚至引发熄火。并且高浓度碱性溶液易在采样锥和截取锥表面形成盐类沉积物，导致信号漂移、灵敏度下降。为了保护进样系统，减少损耗，通常采用的进样浓度控制在5%以下（即稀释6倍以上）。这种稀释前处理对于G5规格（<10ppt）的29%氨水来说，受制于试剂空白和进样系统的制约（整体BEC约0.5-1ppt），稀释之后的测试结果乘以稀释倍数之后，BEC就会提高至3-6ppt，这样就无法确保29%氨水原液的金属元素含量的准确性，给芯片制造的整体良率和实验室中元素分析结果带来较大的风险。
不稀释直接进样是更加准确反映样品真实情况的方式，高浓度基体直接进样往往对设备硬件性能和仪器参数调试有较高要求。我司基于安捷伦ICP-MS的硬件支持，进行了一些具体参数优化，尽可能消除高浓度基体对仪器系统的影响，成功实现29%氨水的直接进样检测，为超高纯电子级氨水的质量控制提供技术支持。
氨水采用石英进样系统，雾化室温度一般设置在（0~5℃），用来减少氨水中氨气挥发进入雾化室后端系统中产生的干扰。此外，还需要注意维护及时维护仪器清洗积盐等，并且氨水与酸性样品切换测试前后需用超纯水冲洗30min以上，防止积盐的形成。
通过安捷伦 ICP-MS高纯石英进样系统、碰撞反应干扰消除与冷焰/温焰/热焰模式切换等技术组合，成功实现了29%氨水直接进样检测，氨水样品中常规金属元素的含量经过测试验证全部能达到低于10ppt的水准，完全能满足G5（<10ppt）的要求。20ppt浓度的加标回收率为90%—126%，满足超痕量元素检测对准确度的要求。