电子级NMP（N-甲基吡咯烷酮）是半导体行业中很重要的有机化学品，纯度一般大于99.9%，具有强溶解力、低腐蚀性、高化学稳定性及与水互溶等特性，主要用于光刻胶的剥离与去除液、半导体精密仪器和线路板的清洗剂。此外，在实验室中，电子级NMP是元素分析中常用的有机溶剂和有机空白试剂，还常用来冲洗液体光学颗粒度仪等。
根据Semi标准，G3-G5级别的NMP均具有相应的应用场景。G3级别的NMP元素分析时常用2%稀硝酸稀释50-100倍后进样测试，可以采用较低的加氧量，对仪器负荷较小。本文将主要讨论G5试剂的元素分析情况，稀释前处理对于G5规格（<10ppt）的试剂来说，受制于试剂空白和进样系统的制约（整体BEC约0.5-1ppt），稀释50倍之后的测试结果乘以稀释倍数之后，BEC就会提高至25-50ppt，这样就无法确保原液的金属元素含量的准确性，给后续应用场景带来很大风险（与往期提到的高纯试剂分析情况类似）。因此不稀释直接进样是针对G5等级以上的高纯试剂能取得更加准确结果的方式。
纯有机不稀释直接进样主要需要注意调节有机加氧含量、注意维护仪器清洗积碳等。雾化室温度一般设置在（-5~0℃），用来减少有机物基体挥发进入雾化室后端系统中产生的干扰，在设定的有机物测试方法下，不可用纯水冲洗过长时间，以避免雾化室结冰，并且从有机相切换至水相时需要将进样管在空气中过渡一定时间，以避免形成悬浊液堵塞雾化器。NMP与水互溶良好，标准溶液加入时，可以加入油性标准溶液，也可以加入水性标准溶液。
我司基于安捷伦ICP MS的硬件支持，进行了一些具体参数优化，尽可能消除高浓度基体对仪器系统的影响，成功实现电子级NMP的直接进样检测，为超高纯电子级NMP的质量控制提供技术支持。
通过安捷伦ICP-MS高纯石英进样系统、碰撞反应干扰消除与温焰/热焰模式切换等技术组合，成功实现了NMP直接进样检测，常规金属元素的含量的检测限全部能达到低于5ppt的水准，完全能满足G5（<10ppt）的要求。20ppt浓度的加标回收率为80%—115%，满足超痕量元素检测对准确度的要求。
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