49%氢氟酸（HF）是半导体行业中很重要的一种湿电子化学品，主要用于清洗和刻蚀工艺，具体包括去除晶圆表面的氧化物层（如二氧化硅）以及作为湿法刻蚀液。其应用特点包括反应速度快、选择性好，但需严格控制金属元素的含量，以确保芯片制造的整体良率。半导体行业对湿电子化学品的金属元素要求是非常高的，特别是***制程（14nm及以下），要求达到Semi的G5级（10ppt以下）。
ICP-MS是超高纯湿电子化学品中金属元素检测常用的仪器。由于氢氟酸对石英和金属材质的腐蚀性随着浓度的提高而增大，为了保护进样系统，减少损耗，通常采用的进样浓度控制在5%以下（即稀释10倍以上）。这种稀释前处理对于G5规格（<10ppt）的49%HF来说，受制于试剂空白和进样系统的制约（整体BEC约0.5-1ppt），稀释之后的测试结果乘以稀释倍数之后，BEC就会提高至5-10ppt，这样就无法确保49%HF原液的金属元素含量的准确性，给芯片制造的整体良率带来较大的风险。
基于安捷伦ICP MS 8900（多重四极杆）的硬件支持，进样系统采用耐氢氟酸的雾化器和雾化室，并进行了一些具体参数优化，经可能消除高浓度基体对仪器系统的影响，成功实现49%HF的直接进样检测，为超高纯氢氟酸的质量控制提供技术支持。
通过安捷伦8900 ICP-MS全惰性耐HF进样系统、MS/MS碰撞反应干扰消除与冷焰/热焰模式切换等技术组合，成功实现了49%HF直接进样检测，常规金属元素的含量的检测限全部能达到低于5ppt的水准，完全能满足G5（<10ppt）的要求。20ppt标准溶液的加标回收率为85%-105%，满足超痕量元素检测对于准确度的要求。
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