电子级硝酸（HNO3）是半导体行业中很重要的一种湿电子化学品，主要用于半导体行业清洗和刻蚀工艺，具体包括清洗工艺中去除硅片表面的金属离子、有机物等污染物，在刻蚀工艺中去除硅片上的多余材料，形成电路图案。此外，电子级硝酸也是元素分析实验室***常用的清洗和样品前处理试剂，常作为空白试剂而使用，金属元素含量受到严格控制，常常要求达到Semi的G5级（10ppt以下）。
电子级硝酸的常见浓度为70%，由于硝酸的强氧化性随着浓度的提高而增强，为了保护进样系统，减少损耗，通常采用的进样浓度控制在10%以下（即稀释7倍以上）。这种稀释前处理对于G5规格（<10ppt）的70%HNO3来说，受制于试剂空白和进样系统的制约（整体BEC约0.5-1ppt），稀释之后的测试结果乘以稀释倍数之后，BEC就会提高至3.5-7ppt，这样就无法确保70%HNO3原液的金属元素含量的准确性，给芯片制造的整体良率和实验室中元素分析结果带来较大的风险（与12月2日文中提到的49%HF情况类似）。
HNO3无HF类似的使用限制，可采用石英进样系统也可采用PFA进样系统，而石英系统在实际使用中通常能得到更高灵敏度的结果，因此采用。基于安捷伦ICP MS 8900（多重四极杆）的硬件支持，进行了一些具体参数优化，尽可能消除高浓度基体对仪器系统的影响，成功实现70%HNO3的直接进样检测，为超高纯电子级硝酸的质量控制提供技术支持。
通过安捷伦8900 ICP-MS高纯石英进样系统、MS/MS碰撞反应干扰消除与冷焰/热焰模式切换等技术组合，成功实现了70%HNO3直接进样检测，常规金属元素的含量的检测限全部能达到低于5ppt的水准，完全能满足G5（<10ppt）的要求。20ppt浓度的加标回收率为85%—115%，满足超痕量元素检测对准确度的要求。
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